Universal-300 T 是在南宫NG28先进CMP装备基础上,,,,,凭证行业前沿手艺需求开发的领先型12英寸CMP装备。。。该装备基于南宫NG28自主知识产权的立异手艺,,,,,配备性能优越的抛光单位,,,,,集成多种终点检测手艺,,,,,并搭载更先进的组合洗濯手艺,,,,,展现出更卓越的清洁效果。。。该装备可实现晶圆纳米级全局平展化,,,,,知足先进制程手艺需求,,,,,已在集成电路、先进封装、大硅片等制造工艺中批量应用。。。
超细密多分区抛秃顶
集成多种先进终点检测手艺
搭载先进洗濯手艺
知足先进制程手艺需求
用于Oxide/SiN/STI/Poly/Cu/W等CMP制程